進階渲染

Mental Ray
渲染呈現想像中的世界
Image courtesy of Amaru Zeas
渲染呈現想像中的世界
我們朝著提升 MENTAL RAY 的渲染技術與工作流程的目標大步向前邁進, rendering technology and workflows within Autodesk Maya and 3ds Max.

自 2007 年首次將實際的物理材質與光線集合提供給 Autodesk Maya 和 3ds Max,展現出全新渲染概念後,即奠定了雙方的合作關係。而這項傳統也在 2016 年的 mental ray 3.14 中延續下來,同時也支援 NVIDIA 材質定義語言 (MDL)。

同時,mental ray 3.14 還增加了 GI-Next - 全新的全域照明技術,讓你更容易操縱複雜的物理光源,執行速度高達之前方法的兩倍,並可在單一 GPU 加速後達到十倍以上的速度。
 

mental ray 3.14 功能


隨附於 mental ray 3.14 並整合至 Autodesk 3dsMax 2017 和 Autodesk Maya 2016 的最新功能包括:

 

全新的全域照明引擎


以 mental ray 渲染的模型,由 Romain Lavoine 提供。

  • 以全新的 GI Next 引擎,取代多種傳統的 GI 技術
  • 採用暴力破解演算法以提供卓越品質和易於使用的特性
  • 提供進階效果,例如動態殘影與鏡頭景深
  • 支援特殊效果,例如毛髮、物體與粒子效果
  • 專為與第三方材質與自訂著色器搭配使用而設計
  • 目前為原型:只能在 CPU 上運作,所以缺乏互動性
  • 為了便於未來加速 GPU 加速而打造和開發
 

效能調整


NVIDIA® mental ray® 支援在同一電腦中任意數量的 GPU 和 CPU 搭配組合,讓您掌控渲染時使用的效能。不同大小、類型、世代的 GPU 負載平衡可自動調整,使用同等核心的數量加倍,離線渲染的效能通常也會加倍。新增 NVIDIA GPUs 還可讓較舊的系統快速變身為強大的渲染節點。

Performance Scaling
 

NVIDIA 材質定義語言


以 NVIDIA 的 MDL 格式渲染物理材質

  • 採用其中一項內建 MDL 設計: 物理渲染技術
  • 使用所有的 mental ray 效果 (例如動態殘影) 來達成高品質成果
  • 可支援所有 MDL 的材質屬性,包括程序化紋理、CPU 與 GPU
  • 能夠與任何可使用 MDL 的應用程式共用 MDL 材質
  • 目前限制:無測定材質、MDL 參數連線受到限制
 

預設啟用光源重要性採樣功能


預設設定能提升現代燈光配置下的光線渲染速度

  • 內建的最佳化「光源重要性採樣」(LIS) 功能現已預設為啟用
  • 可以有效率地採樣區域光源 (area light)、反光板 (light card) 光源、放射光幾何 (emissive geometry) 光源、圖像照明 (image-based lighting) 光源
  • 能更快速地達到想要的光線品質,並輕鬆減少光線雜訊
  • 還能更快速地渲染大量傳統光源
  • 內建的智慧型邏輯只會在可有效提升光線效果的狀況下,針對光源選擇性套用 LIS
  • 內建的啟發式邏輯技術可針對所有場景的整體品質,或執行階段狀況調整
 

New Alembic Features


Fuller support for production pipelines

  • Alembic "curves" can now be loaded as mental ray "hair"
  • New subdivision control added for higher fidelity of tessellation
  • Per-face materials assignments now stored as Alembic facesets
 

OpenEXR 2.2


OpenEXR 2.2 給您更好的效能和更多功能

  • 內建於 mental ray 核心,作為主要多通道圖像格式
  • 渲染分層可以儲存為「多部分」的 .exr 檔案,在電腦上載入更快速
  • 選項: 可以啟用向下相容功能,能與最低 OpenEXR 1.x 的版本完全相容
  • 新功能: 提供可儲存 mental ray 產生之「深度」資料的存放區
OpenEXR 2.0 OpenEXR 2.0 OpenEXR 2.0 OpenEXR 2.0 OpenEXR 2.0
 

環境光遮蔽圖層、GPU 加速


環境光遮蔽可在 GPU 上運算的同時,在 CPU 上渲染出美麗光線

  • 環境光遮蔽渲染圖層可用於任何場景設定和著色器
  • 啟用容易,不需碰觸到任何場景內容
  • 在支援 CUDA 的 GPU 上,能比在 CPU 上渲染出更細緻的美感
  • 新功能: 可自動以 CPU 作為後援系統,產生絲毫不差的完美效果
 

分層著色器 (MILA) 改良


分層著色器功能增強並最佳化

  • 新功能: S在 mental ray 中支援全新的「光線路徑運算式 (Light Path Expressions,LPE)」機制
  • 新功能:畫面緩衝上的「LPE」屬性不會影響渲染圖層的名稱
 

內建 UV 拼貼 (Tiling)


可直接支援常見 UV 拼貼格式以提供最佳效率

  • 全新的 mental ray 外掛程式可在執行階段解析 UV 拼貼的紋理
  • 支援大多數常見的 UV 貼圖規範,例如 UDIM
  • 採用 mental ray 的紋理載入與快取流程功能
  • 保證提供最佳化效能與記憶體使用率
 

「深度」資料


可在進行渲染、光柵化,或光線追蹤時運算「深度」資訊

  • 深度資料的運算可針對每個渲染圖層/畫面緩衝進行
  • 深度資訊可儲存為 OpenEXR 或「DeepTile」格式
  • 可在光柵化與光線追蹤渲染模式下運作
  • 支援第三方應用程式現有的著色器
 

客製化的色彩模式


現在可以輕鬆的客製化色彩轉換

  • 加入新類型的「色彩模式」著色器
  • 支援現有的色彩管理流程與場景說明
  • 完美適用於整合的 mental ray 色彩管理應用程式
  • 在作業前後都能支援色彩,對效能影響極小
 

mental ray 動態程式庫


為每個應用程式都提供一個 mental ray 程式庫

  • mental ray 核心現在可以做為獨立動態程式庫提供
  • 應用程式整合外掛程式與 mental ray 核心現在可獨立運作
  • 可以隨時更新 mental ray,完全不需啟動主應用程式
  • mental ray 的錯誤修正更新只要安裝一次,就可以在各處使用